これらの実現のため,メモリセル構造,回路構成とも従来の半導体メモリとは異なる特徴的. なものとなっている. 本節では NAND フラッシュメモリの特徴について簡単に ...
半導体メモリ - EEPROM, FLASH EEPROMとFLASH 電源 ... EEPROM (Electrically Erasable Programmable Read Only Memory)」と「 ... EEPROMの基本構造は「FLOTOX(FLOating gate ...
フラッシュ・メモリは,電気的に消去. と書き込みが行え,しかもEPROMと同. じ構造なのでコスト的にも安価に製造す. ることができる半導体メモリです.この. ため,最近 ...
2018/09/07 · 浮遊ゲート構造のメモリセルを使う2D NAND. 半導体メモリ技術に関する国際会議「IMW(International Memory Workshop)」では、カンファレンスの前日に ...
MONOS型メモリセルは絶縁性の膜を積層したシンプルな. 構造のため,現在のNANDフラッシュメモリを構成する浮遊. ゲート型メモリセルよりも微細化や3次元化が容易になる。
そこで生まれたのが、平面構造のフラッシュメモリを上に積み上げていくことで、面積あたりのメモリセルの数を増やすという発想でした。建物にたとえるならば、10人しか住め ...
フラッシュメモリ, 不揮発性メモリ, NAND型フラッシュメモリ ... Only Memory) などの半導体メモリでは置き換えること ... フラッシュメモリのセル構造は, 図4に示すように, 従.